WJL Balanced Charge Oleo-Purigilo Por Forigo de Partiklo

WJL Ekvilibrita Ŝarga Oleo-Purigilo Por Forigo de Partiklo Prezenta Bildo

Mallonga priskribo:

Forigi submikkonajn partiklojn (0.1 μm)

WJL uzas la ekvilibran ŝargan teknologion por ŝargi la malgrandegajn poluaĵojn per pozitivaj (+) & negativaj (-) elektrodoj.Kiel likvaĵo miksita denove, kontraŭe ŝargitaj poluaĵoj altiras unu al la alia por aglomerado por formi pli grandan grandecon kiu povas esti kaptita kaj forigita per normaj fajnaj filtriloj. WJL povas ne nur forigi sub-mikronan poluadon, sed ankaŭ tute forigi polusan ŝlimon kaj vernison en kiu tre multe. plibonigu la purecan nivelon de via lubrika kaj hidraŭlika sistemo.

Sendu retpoŝton al ni

Produkta Detalo

Produktaj Etikedoj

Produktaj Trajtoj

》Kun alta filtra taksado, WJL povas forigas sub-mikronajn (0.1 μm) poluaĵojn.

》WJL povas rapide forigi la suspenditajn poluaĵojn de oleo kaj senigi la ŝlimon/vernison aliĝantan sur la interna muro de la hidraŭlika sistemo ludanta la funkcion de sistema purigado.

》Deshidratiga filtrila elemento estas laŭvola por forigi senpagan akvon rapide kaj efike.

》Taŭga por la sistemoj kun granda kvanto da fajnaj partikloj kaj oleaj degradaj produktoj.

Fluodiagramo

Teknikaj datumoj

Laborprincipo

Duobla Ŝarga Teknologio

Antaŭ ĉio, lubrikaj oleoj pasas tra antaŭfiltrilo, iuj el la grandgrandaj partikloj estas forigitaj, kaj la ceteraj partikulitaj poluaĵoj akompanas la oleon en la ŝarĝan kaj miksan procezon.

2 vojoj estas starigitaj ĉe la ŝarĝa kaj miksa areo, kaj la oleo estas ŝargita per elektrodoj kun pozitivaj kaj negativaj ŝarĝoj respektive.La fajnaj partikloj trafluantaj estas induktitaj pozitivaj (+) kaj negativaj (-) ŝargoj respektive kaj tiam miksitaj kune denove.

La pozitivaj kaj negativaj ŝargoj interagas unu kun la alia en la respektiva elektra kampo, kaj la pozitivaj/negativaj ŝargitaj partikloj sorbas unu la alian kaj kreskas pli grandaj kaj la partiklaj poluaĵoj iĝas partikloj iom post iom kaj finfine estas kaptitaj kaj forigitaj per la filtriloj.